电浆清洁设备

iRP

  • 单腔批次式架构的电浆清洁设备。具有高效率、高质量、低营运成本之特性。
  •  使用射频(RF)电源,控制方便操作简易。
  •  具有自动压力控制系统(APC system),精准控制制程压力。
  •  可同时具备多种电浆源(ICP/RIE/PE)。
  • LED/半导体/工业界/被动组件/光学组件/。
  • 表面清洁/去除残余光阻(DESCUM)/薄膜去除/ Wire/(Die) Bonding前处理。