ALD卡匣批次式量产型开发成功

批次量产型ALD – PE model 开发成功, 6inch wafer卡匣式多片之沉膜率约为1.32Å/cycle,已接近1.6Å/cycle ,

长膜之不均匀性已达 3%~5%内,符合业界量产规格需求,制程满足目标: 阻水氧保护层 & 大曲面Lens AR Layer.