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批次ALD(原子层)镀膜设备
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Category :
ALD 原子层镀膜系统
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真空设备
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光学枚叶式溅镀设备
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产品特色:
平面单片/卡夹多片之LOAD-LOCK CST IN/OUT 高产量制程设备.
加热与电浆化学气相沈积双镀膜方案,可获得高均匀性与保型性的超薄薄膜.
100% 保型,精确的厚度控制,优良的均匀性规格.
PE MODEL 适合制程温度低
可运用于迭层或复合层膜层设计
制程与产业:
金属ALD制程 / 氧化物ALD制程 / 氮化物ALD制程
LENS AR光学镀膜 / MINI LED / MICRO LED等产业.
产品图库:
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