雷射(激光)光學蒸鍍設備

  • 機台適合學研界及產業界使用
  • 晶片尺寸為2~8吋晶片使用
  • 基板具有真空翻面鍍膜功能,翻面穩定性佳
  • 客製化機台設計,可以依照客戶要求設計
  • 具有離子圓助鍍的功能
  • 可以依照客戶需要加裝光學監控功能
  • 光學蒸鍍製程 / Laser Bar蒸鍍製程
  • AR/HR 光學多層數膜蒸鍍製程
  •  Laser Bar AR/HR 多層數光學蒸鍍製程
  •  學研界研究機台