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電漿清潔設備
iRP
產品分類:
真空設備
,
電漿清潔系統
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批次ALD(原子層)鍍膜設備
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產品特色:
單腔批次式架構的電漿清潔設備。具有高效率、高質量、低營運成本之特性。
使用射頻(RF)電源,控制方便操作簡易。
具有自動壓力控制系統(APC system),精準控制製程壓力。
可同時具備多種電漿源(ICP/RIE/PE)。
製程與產業:
LED/半導體/工業界/被動組件/光學組件/。
表面清潔/去除殘余光阻(DESCUM)/薄膜去除/ Wire/(Die) Bonding前處理。
產品圖庫:
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