電漿清潔設備

iRP

產品分類：真空設備, 電漿清潔系統

單腔批次式架構的電漿清潔設備。具有高效率、高質量、低營運成本之特性。
使用射頻(RF)電源，控制方便操作簡易。
具有自動壓力控制系統(APC system)，精準控制製程壓力。
可同時具備多種電漿源(ICP/RIE/PE)。

LED/半導體/工業界/被動組件/光學組件/。
表面清潔/去除殘余光阻(DESCUM)/薄膜去除/ Wire/(Die) Bonding前處理。

單腔批次式磁控濺鍍設備

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