電漿離子源蒸鍍設備

  • 機台適合學研界及產業界使用
  • 晶片尺寸為2~8吋晶片使用
  • 鍍膜速度快
  • 附著性, 緻密性優
  • 構造簡單, 維修方便
  • 用加熱絲方式進行加熱,不同模組進行控溫
  • LED ITO 透明導電膜製程
  • OLED 透明導電膜製程/ 氧化物多層膜製程
  • 學研界研究機台