批次量產型ALD - PE model 開發成功, 6inch wafer卡匣式多片之沉膜率約為1.32Å/cycle,已接近1.6Å/cycle , 長膜之不均勻性已達 3%~5%內,符合業界量產規格需求,製程滿足目標: 阻水氧保護層 & 大曲面Lens  AR Layer. 産品資訊

薄化面板之BSITO 製程設備全量產, 薄化合板厚度可對應至0.2mm(0.1貼0.1),單一量產機可滿足低阻與高阻雙製程生產規格優勢. 産品資訊