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批次ALD(原子層)鍍膜設備

批次ALD(原子層)鍍膜設備

  • 產品特色:
  • 平面單片/卡夾多片之LOAD-LOCK CST IN/OUT 高產量製程設備.
  • 加熱與電漿化學氣相沈積雙鍍膜方案,可獲得高均勻性與保型性的超薄薄膜.
  • 100% 保型,精確的厚度控制,優良的均勻性規格.
  • PE MODEL 適合製程溫度低
  • 可運用於迭層或複合層膜層設計
  • 製程與產業:
  • 金屬ALD製程 / 氧化物ALD製程 / 氮化物ALD製程
  • LENS AR光學鍍膜 / MINI LED / MICRO LED等產業.
  • 產品圖庫:
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